第210章 国际贸易8（第4页）
“我们可以打开看看么？”
“麦斯先生”
“这个恐怕不行”
“这个无尘车间是不允许随便打开的”
“这样麦斯先生我可以为你介绍一下这个光刻机”
“好吧”
“那麻烦张成先生介绍一下这个光刻机”
“这台光刻机是我们全球半导体集团自主研发的全球第一台光刻机”
“
光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。”
“在半导体芯片生产的难点和关键点在于如何在硅片上制作出目标电路图样，”
“我们研究这一过程通过光刻来实现，”
“光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平”
“我们的芯片在生产中需要进行
20-30
次的光刻，”
“耗时占到
ic
生产环节的
50%左右，占芯片生产成本的13
”
“光刻机为了在国际市场上方便交流我们给他赋予了一个英文名字”
“lithography”
“光刻机我们又别名的叫他，掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统”
“
我们全球半导体集团经过长期的研究才成功的研发出来了光刻机”
“他的工作原理是在诸如硅片的基底表面覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶，”
“再采用特定光，”
“一般来说是紫外光、深紫外光、极紫外光透过包含目标图案信息的掩模版照射在基底表面，”
“在被光线照射到的光刻胶会发生反应，”
“因此，在显影后被照到的区域会产生与未被照到的区域不同的效果”
“当然这种情况也是主要依赖于光刻胶的性质来决定的”
“张成先生这么说这个光刻机用到的光刻胶是很关键的东西了?”
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